半導體科技新聞 - Cadence益華電腦客製化顯影技術滿足22奈米半導體製造需求 - Semicondutor News, Science and Technology

Cadence益華電腦宣布推出客製化顯影光源最佳化的軟體，這是Cadence益華電腦22奈米以下整合式顯影光源最佳化(Source Mask Optimization，SMO)技術系列中的全新功能。最佳化客製化顯影光源技術強化了製程容許度(Process Window)，並提供22奈米半導體製造更佳的 ...

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